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       真空腔體是一種保持內部為真空狀態的容器，主要應用于半導體制造中。反應釜的制作需要考慮到容積、材質和形狀。不銹鋼是高真空系統的主要結構材料，具有優良的抗腐蝕性、放氣率低、無磁性、焊接性好、導電率和導熱率低等優點，在反應釜的制作中應用廣泛。近年來，鑄造鋁合金也逐漸被用于制作。另外，鈦合金也被用于制作特殊用途的真空反應釜。

       在真空腔體的制作過程中，表面處理方式包括噴丸、噴砂和機械拋光。

       噴丸是一種采用高速沖擊將工件表面植入殘余壓應力的冷加工工藝，可提升工件的強度。

       噴砂是利用壓縮空氣將高速噴射束將噴料高速噴射到工件表面，清理和粗化基體表面的過程，使工件表面的外表面的外表或形狀發生變化。

       真空腔體的機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表面，可使用轉臺等輔助工具。